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之所以孙祖杰这么牛逼轰轰,敢做这样的赌博,就是因为孙祖杰在八十年代投资启动研究的几款激光器,尤其是arf193nm激光器终于在1997年开发成功,这是一个具有战略意义的重大突破。
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而最先进的极紫外光euv技术,华国经过长期不懈的攻关,目前也已经取得了不少的成果。
之所以在光源上取得突破,原因就是华国的激光技术一直处于世界一流水准。有了不少投资,又有了明确的方向,取得发展是必然的。
华吉光电所搞出的激光器虽然功率低了一些,但是勉强可以使用,这也迫使倭美两国不得不陆续放弃了对华国在这一领域的技术封锁。
孙祖杰对他们取得的成功非常高兴,华投紧接着又拨给他们一千万华元资金,要求arf193nm激光器必须达到西方同等水平。
但是光源只是光刻机一小部分,作为最尖端的机电一体化产品,华国自产的光刻机最大的问题就是套刻精度不够和生产效率不行。
套刻精度与光刻分辨力密切相关。如果要达到0.10μm的光刻分辨力,根据33%法则要求套刻精度不低于0.03μm。
套刻精度主要与工件台和掩模台定位精度、光学对准精度、同步扫描精度等因素有关,定位精度、对准精度和同步扫描精度分别约为套刻精度的15~13,即0.006~0.01μm。
而提高生产效率是光刻机实现产业化的必要条件。为了提高生产效率,必须优化设计激光器输出功率、重复频率、曝光能量控制、同步扫描等各个技术环节,并采用先进技术尽量减少换片、步进和光学对准等环节所需时间。
要想能够完善所有环节,必须用漫长的时间去摸索,调试,这就需要大量的投资。虽然欧派微芯出钱,各大学和几大光学所出技术,花了无数的钱,但是因为华国整体工业实力的不足,华国国产光刻机为了提高套刻精度,还是不得不降低生产效率。
华国九十年代研发的1微米前道光刻机相比于进口产品,效率一直差得比较多,就是这个原因,所以为了提高生产效率,孙祖杰很早就想到了阿斯麦的双工作台。
双工作台系统,使得光刻机能在一个工作台进行曝光晶圆片,同时在另外一个工作台进行预对准工作,并在第一时间得到结果反馈,这样生产效率可以提高大约35%,精度提高10%以上。
但是双工件台系统虽然仅是加一个工作台,但技术难度却不容小觑,对工作台转移速度和精度有非常高的要求。
华国工程师从磁悬浮技术得到启示,利用华国在永磁体领域的领先,正在全力开发磁悬浮工作台,目前实验研究已经有了不小的突破,实验发现精度确实有了不小的提高。
现在有了193nmarf光源,有了浸没式光学镜头,又有了双工作台的突破,专家们经过研究认为根本没有必要再跟着西方的技术路线亦步亦趋,欧派微芯完全可以直接攻关0.1微米左右线程的浸没式光刻机。
因为使用193nmarf光源的浸没式光刻机,波长直接缩短为134nm,这样新型光刻机可以直接从0.1nm左右线程起步,再通过光学邻近效应矫正等技术后,其极限光刻工艺节点甚至可达28nm。
要知道在1997年,此时主流的光刻机线程也不过0.25微米,采用的还是krf248nm光源。而倭国正在研发的193nm干式光刻机线程也仅仅是0.18微米,下一步才是0.13微米,90nm。
也就是说采用另外一条技术路线的华国人有3到5年的宝贵追赶时间,有这个时间应该有机会取得突破。
只要这款光刻机被攻克,华国就很可能实现弯道超车,为此赌一把绝对是值得的,毕竟华投有了相应的技术积累。
除此之外,还有一个好处,那就是采用193nm干式光刻机到了65nm左右时,差不多快到极限了,而采用华国路线,线程可以直接到达30nm左右,都问题不大。
所以到达这段线程区间时,欧美要么更换光源全部推倒重来,要么与华国交换技术。前者需要大量投资,而后者有现成的技术,到时候除非资本家脑子短路了,否则他们一定会与华国交换专利。因此华国的技术路线,明显才是未来,那么现在投入再多,也是值得的。
就在1998年初,更换了身份之后的孙祖杰,以华投决策小组组长的身份,出席了新型光刻机的研发动员大会,林先生也参加了这次动员大会。
这几年林先生的研究团队精力都放在天翼那条0.5微米芯片生产线的调试和改进上,并没有权限知道华投在光刻机领域的那些秘密。
经过几年的合作之后,林先生的研究团队已经被认可,所以今天他才有资格出席今天的动员大会,参与到这款代表未来的光刻机研究。
林先生听着长吉光电所的同志公开新型光刻机的技术方案,简直不敢相信自己的耳朵。
什么时候内地已经攻克了浸没式光刻机,而且有了不止一代产品,那就说明他们很早就有这个思路,并已经实现,可是他们为什么又一直保密,没有对外公开?
不过转而一想,林先生也意识到了什么,这些年内地的半导体工业一直在追赶,而且速度很快。
九十年代初就宣称弄出了1微米光刻机,而到了95年已经攻克了0.5微米光刻机,所以欧美相继对华国解禁了一部分技术封锁,恐怕就是他们浸没式光刻机的效果。怪不得华国人一直对自己的国产光刻机极端保密,不愿意对外公开,原来是这个原因。
这样一来,他的兴趣猛然间大了很多,他怎么也没有想到他的思路竟然在内地已经成型,这太让人兴奋了。
尤其是当他知道孙祖杰根据他八十年代的论文,才启动的研发时,更是高兴的不得了,
“孙总助,墙里开花墙外香,我们华人能够有这样的追赶机会,而且我还在其中起到了一些绵薄之力,真是与有荣焉!”
孙祖杰笑着点点头,林先生提出理论,内地科学家研发出来,然后还把理论提出者请过来帮着研究,这是一件多么让人幸福的事情呀!
几年以后,华国一旦取得突破,到时候就热闹了,美帝要么选择华国路线;要么选择倭国路线,无论哪一点都是他们不乐意的,而且无论哪一点都没有桃花岛的份。
这样一来,桃花岛在芯片代工业领域的领先将会受到很大的限制,这也为华投的追赶铺平了道路。
光刻机一旦突破,就意味着电子产业的制高点被华国突破,华国将更加从容更加自信的开展其他芯片制造设备的研究,为此就算这四百亿华元花光了也是值得的。
而光刻机领域的一些技术成果,同样可以应用到其他领域,比比如联合船舶,他们的造船技术进步很快;比如华夏重工,他们根据俄罗斯的技术转移和华投的一些研究成果,已经研究出第一代华国五轴中心。
尽管第一代产品精度有些欠缺,但已经解决了相当一部分军工领域的需求。华夏重工的技术突破,对于华国的军工制造业和重大装备制造业的意义重大。
所以孙祖杰才非常有底气的拒绝继续给军产部提供资金,而且对这一类特殊商品提出了非常高的报价,有本事你们可以不买呀。
在九八年的年初,经过几次催讨,确信已经得不到拨款的军方大佬们对此十分恼火,但是研究之后又不得不妥协。
原因就是军工要发展,必须要购买华夏重工大量的高性能机床,这是此时华国唯一的供货商,而这类机床想进口更是门都没有。
而且不仅仅华夏重工,欧派微芯和联合超算也牛得一塌糊涂,军工所必须的多款高端芯片,他们也必须依赖欧派微芯的制造。另外还有一些特殊涂料,他们的报价正好卡在点上,让你气得半死,还不买不行。
军方的大佬们迷惑了,什么时候华投已经发展到这种程度,可以要挟军方了?越想越窝火的大佬们,对着总装领导大发牢骚,你们也太不争气了,搞军工的竟然技术不如搞民品的企业,你们到底是干什么吃的。
总装的领导有些苦涩,尽管这两年拨款多了不少,但缺课太多了,他们只能把有限的资源投资到最重要的领域。
军工芯片和高精尖的机床制造只能依赖于华投,而且不仅仅是现在,未来这种依赖性可能更加严重。
因为华投现在的科研投入太大了,他们的科研经费又不打一点折扣,使用效率比军工系统高了很多,这样一来,未来华投系企业很可能比军工系统的同类型企业要强大的多得多。
所以总装领导无奈的告诉军方的大佬,咱们手下的那些亲儿子已经远不如送出去的这群野孩子,对华投系企业现在不仅要一碗水端平,而且还要更加重视,不然华投的幺蛾子会越来越多。现在孙祖杰找茬,只是要求一碗水端平,已经很不错了,习惯就好,习惯就好。